超LSIレジストの分子設計 / 津田穣著
(表面・薄膜分子設計シリ-ズ ; 11)
| データ種別 | 図書 |
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| 出版者 | 東京 : 共立出版 |
| 出版年 | 1990.4 |
| 形態 | v,117p ; 19cm |
| 著者標目 | 日本表面科学会 津田, 穣(1935-) |
| 件 名 | 集積回路 工業材料 薄膜 感光性樹脂 |
| 分 類 | NDC:549.8 NDC:431.89 |
| 書誌ID | LT00432641 |
所蔵情報を非表示
| 状 態 | 巻 次 | 所 在 | 請求記号 | 資料番号 | ISBN | 刷 年 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | お薦めの本 | 自動書庫 | 付録注記 |
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中央自動書庫 | 431.89/N77/1-11 | 0109616300007 | 9784320085114 |
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書誌詳細を非表示
| 本文言語 | 日本語 |
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| 一般注記 | 叢書の編者:日本表面科学会 |
| NCID | BN04656779 |
| 巻冊次 | ISBN:4320085116 |
目次／あらすじ