戻る

この文献を取り寄せる

図書館へ購入を依頼する

この情報を出力する

このページのリンク

他の検索サイト

ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)

データ種別 図書
版 普及版
出版者 東京 : シーエムシー出版
出版年 2007.4
形態 vi, 253p : 挿図 ; 21cm
別書名 その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist
著者標目 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ>
件　名 BSH:リソグラフィー
BSH:ナノテクノロジー
分　類 NDC9:549.7
書誌ID LT00750599

所蔵情報を非表示


工学部分室開架 549.7/Y42/1 2000000065492 9784882319214




書誌詳細を非表示

本文言語 日本語
一般注記 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
NCID BA81772932
巻冊次 ISBN:9784882319214
目次／あらすじ

 類似資料

戻る