フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ)
データ種別 | 図書 |
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版 | 普及版 |
出版者 | 東京 : シーエムシー出版 |
出版年 | 2015.11 |
形態 | vii, 317p : 挿図 ; 26cm |
別書名 | 標題紙タイトル:New trends of photoresists 異なりアクセスタイトル:フォトレジスト材料開発の新展開 |
著者標目 | 上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル> |
件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:感光性樹脂 |
分 類 | NDC9:549.7 NDC8:549.7 |
書誌ID | LT01022081 |
所蔵情報を非表示
状 態 | 巻 次 | 所 在 | 請求記号 | 資料番号 | ISBN | 刷 年 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | お薦めの本 | 自動書庫 | 付録注記 |
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工学部分室開架 | 549.7/U32/1 | 2000000392110 | 9784781310398 |
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書誌詳細を非表示
本文言語 | 日本語 |
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一般注記 | 2009年刊の普及版 文献: 各章末 |
NCID | BB19937937 |
巻冊次 | ISBN:9784781310398 |
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