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フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ)

データ種別 図書
普及版
出版者 東京 : シーエムシー出版
出版年 2015.11
形態 vii, 317p : 挿図 ; 26cm
別書名 標題紙タイトル:New trends of photoresists
異なりアクセスタイトル:フォトレジスト材料開発の新展開
著者標目 上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル>
件 名 BSH:リソグラフィー
BSH:感光性樹脂
分 類 NDC9:549.7
NDC8:549.7
書誌ID LT01022081

所蔵情報を非表示


工学部分室開架 549.7/U32/1 2000000392110 9784781310398




書誌詳細を非表示

本文言語 日本語
一般注記 2009年刊の普及版
文献: 各章末
NCID BB19937937
巻冊次 ISBN:9784781310398
目次/あらすじ

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