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ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク
入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク / 田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著

データ種別	図書
出版者	東京 : 工業調査会
出版年	2006.12
形態	323p, 図版[3]p : 挿図 ; 21cm
別書名	標題紙タイトル:Introduction to photomask technology 異なりアクセスタイトル:フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク
著者標目	田辺, 功(1937-) <タナベ, イサオ> 竹花, 洋一 <タケハナ, ヨウイチ> 法元, 盛久 <ホウガ, モリヒサ>
件　名	BSH:リソグラフィー
分　類	NDC9:549.7 NDC8:549.7
書誌ID	LT00810920

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