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フォトポリマーノキソトオウヨウ
フォトポリマーの基礎と応用 / 山岡亜夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 136)

データ種別	図書
出版者	東京 : シーエムシー出版
出版年	2003.3
形態	vii, 336p ; 21cm
別書名	標題紙タイトル:Proceses and applications of photopolymers その他のタイトル:実用高分子レジスト材料の新展開
著者標目	山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ>
件　名	BSH:感光性樹脂
分　類	NDC9:578.4
書誌ID	LT00668276

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状　態	巻　次	所　在	請求記号	資料番号	ISBN	刷　年	コメント	利用注記	予約・取寄	お薦めの本	自動書庫	付録注記
		工学部分室開架	578.4/Y42/2	0113242420000	9784882317876				予約・取寄				予約・取寄

書誌詳細を非表示

本文言語	日本語
一般注記	「実用高分子レジスト材料の新展開」 (シーエムシー出版 1997年刊) の再版普及版
NCID	BA61571778
巻冊次	ISBN:4882317877

目次／あらすじ