ハンドウタイ セイゾウ プロセス オ ササエル センジョウ ・ クリーンカ ・ オセン セイギョ ギジュツ
半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術 / [羽深等ほか執筆]
| データ種別 | 図書 |
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| 出版者 | 東京 : サイエンス&テクノロジー |
| 出版年 | 2022.11 |
| 形態 | 123p, 図版 [10] p : 挿図 ; 26cm |
| 別書名 | 異なりアクセスタイトル:半導体製造プロセスを支える洗浄クリーン化汚染制御技術 |
| 著者標目 | 羽深, 等 <ハブカ, ヒトシ> |
| 件 名 | NDLSH:半導体 NDLSH:洗浄 |
| 分 類 | NDC9:549.8 NDC10:549.8 NDLC:ND371 |
| 書誌ID | LT01064082 |
所蔵情報を非表示
| 状 態 | 巻 次 | 所 在 | 請求記号 | 資料番号 | ISBN | 刷 年 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | お薦めの本 | 自動書庫 | 付録注記 |
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工学部分室開架 | 549.8/H11/1 | 2000000431641 | 9784864282949 | 2023 |
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書誌詳細を非表示
| 本文言語 | 日本語 |
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| 一般注記 | 文献あり |
| NCID | BD00083568 |
| 巻冊次 | ISBN:9784864282949 |
目次／あらすじ