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プラズマ CVD ニオケル セイマク ジョウケン ノ サイテキカ ニ ムケタ ハンノウ キコウ ノ リカイ ト プロセス セイギョ セイマク ジレイ
プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

データ種別 図書
出版者 東京 : サイエンス&テクノロジー
出版年 2018.9
形態 328p, 図版 [5] p : 挿図 ; 26cm
別書名 異なりアクセスタイトル:プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御成膜事例
件 名 NDLSH:膜 (工学)
NDLSH:プラズマ
分 類 NDC9:571.4
NDLC:PA151
NDC10:571.4
書誌ID LT01055278

所蔵情報を非表示


工学部分室開架 571.4/P97-1/1 2000000423564 9784864281706




書誌詳細を非表示

本文言語 日本語
一般注記 参考文献あり
NCID BB27654461
巻冊次 ISBN:9784864281706
目次/あらすじ

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