プラズマ CVD ニオケル セイマク ジョウケン ノ サイテキカ ニ ムケタ ハンノウ キコウ ノ リカイ ト プロセス セイギョ セイマク ジレイ
プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例
データ種別 | 図書 |
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出版者 | 東京 : サイエンス&テクノロジー |
出版年 | 2018.9 |
形態 | 328p, 図版 [5] p : 挿図 ; 26cm |
別書名 | 異なりアクセスタイトル:プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御成膜事例 |
件 名 | NDLSH:膜 (工学) NDLSH:プラズマ |
分 類 | NDC9:571.4 NDLC:PA151 NDC10:571.4 |
書誌ID | LT01055278 |
所蔵情報を非表示
状 態 | 巻 次 | 所 在 | 請求記号 | 資料番号 | ISBN | 刷 年 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | お薦めの本 | 自動書庫 | 付録注記 |
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工学部分室開架 | 571.4/P97-1/1 | 2000000423564 | 9784864281706 |
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書誌詳細を非表示
本文言語 | 日本語 |
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一般注記 | 参考文献あり |
NCID | BB27654461 |
巻冊次 | ISBN:9784864281706 |
目次/あらすじ
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