ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)
データ種別 | 図書 |
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版 | 普及版 |
出版者 | 東京 : シーエムシー出版 |
出版年 | 2007.4 |
形態 | vi, 253p : 挿図 ; 21cm |
別書名 | その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー 標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist |
著者標目 | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:ナノテクノロジー |
分 類 | NDC9:549.7 |
書誌ID | LT00750599 |
所蔵情報を非表示
状 態 | 巻 次 | 所 在 | 請求記号 | 資料番号 | ISBN | 刷 年 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | お薦めの本 | 自動書庫 | 付録注記 |
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工学部分室開架 | 549.7/Y42/1 | 2000000065492 | 9784882319214 |
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書誌詳細を非表示
本文言語 | 日本語 |
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一般注記 | 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー |
NCID | BA81772932 |
巻冊次 | ISBN:9784882319214 |
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