フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ
フォトポリマーの基礎と応用 / 山岡亜夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 136)
データ種別 | 図書 |
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出版者 | 東京 : シーエムシー出版 |
出版年 | 2003.3 |
形態 | vii, 336p ; 21cm |
別書名 | 標題紙タイトル:Proceses and applications of photopolymers その他のタイトル:実用高分子レジスト材料の新展開 |
著者標目 | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
件 名 | BSH:感光性樹脂 |
分 類 | NDC9:578.4 |
書誌ID | LT00668276 |
所蔵情報を非表示
状 態 | 巻 次 | 所 在 | 請求記号 | 資料番号 | ISBN | 刷 年 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | お薦めの本 | 自動書庫 | 付録注記 |
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工学部分室開架 | 578.4/Y42/2 | 0113242420000 | 9784882317876 |
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書誌詳細を非表示
本文言語 | 日本語 |
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一般注記 | 「実用高分子レジスト材料の新展開」 (シーエムシー出版 1997年刊) の再版 普及版 |
NCID | BA61571778 |
巻冊次 | ISBN:4882317877 |
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