1997 2nd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage : 13-14 May 1997, Monterey, California, USA / Kim P. Cheung, Moritaka Nakamura, and Calvin T. Gabriel, editors ; technical co-sponsors, IEEE/Electron Devices Society, American Vacuum Society, Japanese Society of Applied Physics
データ種別 | 図書 |
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出版者 | Sunnyvale, Calif. : Northern California Chapter of the American Vacuum Society |
出版年 | c1997 |
形態 | i, 259 p. : ill. ; 28 cm |
別書名 | 表紙タイトル:P2ID 異なりアクセスタイトル:2nd International Symposium on Plasma Process-Induced Damage |
著者標目 | *International Symposium on Plasma Process-Induced Damage (2nd : 1997 : Monterey, Calif.) Cheung, Kin P. Nakamura, Moritaka Gabriel, Calvin T. IEEE Electron Devices Society American Vacuum Society 応用物理学会 |
件 名 | LCSH:Semiconductor wafers -- Defects -- Congresses
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LCSH:Semiconductors -- Effect of radiation on -- Congresses 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching -- Congresses 全ての件名で検索 |
分 類 | NDC:549.8 |
書誌ID | LT00563731 |
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状 態 | 巻 次 | 所 在 | 請求記号 | 資料番号 | ISBN | 刷 年 | コメント | 利用注記 | 予約・取寄 | お薦めの本 | 自動書庫 | 付録注記 |
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工学部分室開架 | 549.8/I57-15/1 | 0111452850100 | 9780965157711 |
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本文言語 | 英語 |
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一般注記 | "IEEE catalog no. 97TH8265"--T.p. verso Includes bibliographical references and index |
NCID | BA41124824 |
巻冊次 | ISBN:0965157717 |
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